삼양엔씨켐은 반도체 제조 공정 중 노광 공정과 세정 공정에 쓰이는 정밀화학 소재를 만들어 팝니다. 주력은 포토레지스트(PR, Photoresist)용 고분자(Polymer)와 광산발산제(PAG, Photo Acid Generator), 그리고 식각 뒤 잔사를 제거하는 PERR(Post-Etch Residue Remover)용 중간체입니다.

• 노광 공정용 포토레지스트 핵심 소재인 고분자와 광산발산제를 개발·생산합니다.
• 세정 공정에서는 식각 이후 잔사 제거에 쓰이는 PERR용 중간체를 생산합니다.

2025년 매출의 중심은 PR용 소재입니다. PR용 소재 매출이 84,247,343천원으로 전체의 67.19%를 차지했고, Wet-Chemical이 34,395,382천원으로 27.43%를 보탰습니다. 기타 매출은 6,743,189천원, 5.38%입니다.

• 2025년 기준 PR용 소재가 매출의 약 3분의 2입니다.
• Wet-Chemical까지 합치면 두 제품군이 매출 대부분을 차지합니다.

삼양엔씨켐은 고객 발주를 받아 100% 직매출로 판매하고, 매출은 수출 쪽 비중이 더 큽니다. 전체 매출액 중 내수는 37%, 로컬수출 및 직수출은 63%입니다. 고객 측면에서는 국내에 제조시설을 둔 글로벌 포토레지스트 제조회사와 국내 포토레지스트 제조회사가 핵심입니다.

• 판매 경로는 고객 발주 기반 직매출 100%입니다.
• 내수보다 로컬수출·직수출 비중이 더 큽니다.
• 주요 고객군은 포토레지스트 제조업체입니다.

제조업체라 생산능력과 설비투자가 중요합니다. 2025년 생산능력은 PR용 소재 328,640Kg, Wet-Chemical 3,708,039Kg이고, PR용 소재 생산성 향상을 위한 기계장치 설비투자 계획도 있습니다. 다만 실제 공급은 구매주문서(P/O) 기준이라 공시할 수 있는 수주잔고는 없습니다.

• PR용 소재와 Wet-Chemical 모두 생산능력·가동률이 공시에 따로 제시됩니다.
• PR용 소재 생산성 향상을 위한 설비투자 계획이 있습니다.
• 수요 전망은 공유받지만 공시 수주잔고는 없습니다.

공시상 중요한 신규사업은 없다고 되어 있지만, 방향성은 반도체 포토레지스트용 기초소재 연구개발에 있습니다. 삼양엔씨켐은 극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 공정용 포토레지스트 국산화 기술개발과 KrF·ArF·EUV·Bump·BARC 포토레지스트용 소재 개발을 수행했고, 개발 및 상업화 완료 실적을 제시했습니다.

• 신규사업보다는 기존 반도체 포토레지스트 소재 고도화가 중심입니다.
• EUV 공정용 포토레지스트 국산화 기술개발 실적이 있습니다.
• 연구개발비는 2025년 매출액 대비 3.91%입니다.

삼양엔씨켐은 최종 반도체 업체에 직접 완제품을 파는 구조라기보다, 포토레지스트와 세정액 제조업체에 핵심 소재·중간체를 공급하는 위치에 있습니다. 그래서 반도체 생산업체의 생산량, 포토레지스트 제조사의 요구, 최종 고객사의 승인과 사업 변동성이 매출에 영향을 줄 수 있습니다.

• 최종 고객은 반도체 제조회사이고, 주요 고객은 반도체 소재 회사입니다.
• 포토레지스트 제조사와 소재업체 간 계약은 최종 반도체 제조사의 요구와 승인 영향을 받을 수 있습니다.